Für diese Stelle werden keine Bewerbungen mehr angenommen
- entwickeln, analysieren, optimieren feinmechanischer und optischer Systeme für hochpräzise Messaufgaben in der DUV-Photomasken Metrologie
- erarbeiten und Bewerten von Error Budgets
- Entwicklung von System- und Baugruppenkonzepten
- Simulation der Einflüsse auf die Messgenauigkeit und Ableitung der Entwicklungsschwerpunkte
- koordinative und interdisziplinäre Rolle in einer Matrixorganisation im agilen Arbeitsumfeld
- enger Austausch mit Teamkollegen des Engineerings sowie Service und Operations und Unterstützung bei Troubleshootings
- ein erfolgreich abgeschlossenes Studium im naturwissenschaftlich-technischen Bereich mit Schwerpunkt Optik/Optikdesign/Systemtechnik (Promotion von Vorteil)
- Berufserfahrung in der Umsetzung anspruchsvoller Entwicklungsaufgaben und im Projektmanagement
- eine große Leidenschaft für Präzisionsmesstechnik und ggf. Kenntnisse zur automatisierten Datenanalyse
- sehr gute Kenntnisse in der Mikroskopie, Erfahrungen im Umgang mit Lasern bis Klasse 4 und optischen Simulationen, sowie gute Matlab-Kenntnisse
- ein hohes Maß an Selbstständigkeit, eine innovative und strukturierte Arbeitsweise, sowie die Fähigkeit komplexe Sachverhalte klar und strukturiert aufzubereiten, zu präsentieren und zu dokumentieren
- Teamfähigkeit sowie Spaß am Arbeiten in einem global agierendem Team
- sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift
System Development Engineer AIMS DUV Photomask Metrology - Jena, Deutschland - ZEISS Group
Beschreibung
Ihre Rolle
Ihr Profil
Your ZEISS Recruiting Team:
Friederike Steindel