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    System Development Engineer AIMS DUV Photomask Metrology - Jena, Deutschland - ZEISS

    ZEISS
    zeiss background
    Beschreibung
    Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.

    Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten.Unsere Kultur ist geprägt von Expertenwissen und Teamgeist. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung:Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen.

    Vielfalt ist ein Teil von ZEISS. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung.

    koordinative und interdisziplinäre Rolle in einer Matrixorganisation im agilen Arbeitsumfeld

    - enger Austausch mit Teamkollegen des Engineerings sowie Service und Operations und Unterstützung bei Troubleshootings

    ein erfolgreich abgeschlossenes Studium im naturwissenschaftlich-technischen Bereich mit Schwerpunkt Optik/Optikdesign/Systemtechnik (Promotion von Vorteil)

    - sehr gute Kenntnisse in der Mikroskopie, Erfahrungen im Umgang mit Lasern bis Klasse 4 und optischen Simulationen, sowie gute Matlab-Kenntnisse

    - Teamfähigkeit sowie Spaß am Arbeiten in einem global agierendem Team

    - sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift


  • ZEISS Jena, Deutschland

    Sich etwas Neues trauen, über sich hinauswachsen und dabei die Grenzen des Machbaren neu definieren. Genau das ist es, was unsere Mitarbeitenden täglich leben dürfen und sollen. Um mit unseren Innovationen das Tempo vorzugeben und Großartiges zu ermöglichen. Denn hinter jedem erf ...


  • ZEISS Group Jena, Deutschland Ganztags

    Ihre Rolle · entwickeln, analysieren, optimieren feinmechanischer und optischer Systeme für hochpräzise Messaufgaben in der DUV-Photomasken Metrologie · erarbeiten und Bewerten von Error Budgets · Entwicklung von System- und Baugruppenkonzepten · Simulation der Einflüsse auf ...


  • ZEISS Gruppe Jena, Deutschland Ganztags

    Ihre Rolle entwickeln, analysieren, optimieren feinmechanischer und optischer Systeme für hochpräzise Messaufgaben in der DUV-Photomasken Metrologie erarbeiten und Bewerten von Error Budgets Entwicklung von System- und Baugruppenkonzepten Simulation der Einflüsse auf die Messgena ...


  • ZEISS Jena # Roßdorf # Oberkochen, Deutschland

    Step out of your comfort zone, excel and redefine the limits of what is possible. That's just what our employees are doing every single day – in order to set the pace through our innovations and enable outstanding achievements. After all, behind every successful company are many ...


  • ZEISS Jena, Deutschland

    Step out of your comfort zone, excel and redefine the limits of what is possible. That's just what our employees are doing every single day – in order to set the pace through our innovations and enable outstanding achievements. After all, behind every successful company are many ...


  • ZEISS Gruppe Jena, Deutschland Ganztags

    Shape the digital future of ZEISS in the Global Algorithms & Software Semiconductor Mask Solutions team · Your sophisticated algorithms evaluate enormous amounts of image data in a highly efficient manner. Only in this way we enable the performance of our complex photomask system ...


  • ZEISS Gruppe Jena, Deutschland Ganztags

    Shape the digital future of ZEISS in the Global Algorithms & Software Semiconductor Mask Solutions team Your sophisticated algorithms evaluate enormous amounts of image data in a highly efficient manner. Only in this way we enable the performance of our complex photomask systems ...